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除了北方华创,还有这家小巨头 北方华创

发布时间:2019-07-16 09:12 来源:半导体风向标点击 :
北方华创
原文标题:除了北方华创,还有这家小巨头
原文发布时间:2019-07-11 16:12:46
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北方华创


除了北方华创,还有这家小巨头

作者: 曹辉、陈杭

自主创芯·产业报国

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半导体设备将成为一个大板块,支撑整个硬科技的发展:

前道:北方 + 上微 + 中微 + 至纯 + 盛美 + 万业

后道:长川 + 精测

至纯科技,作为国内高纯工艺系统龙头,自2000年成立以来,下游不断拓宽,客户结构不断优化。

发展阶段:业务初创期->设计成型期->技术成熟期->业务稳定期->结构转型期

下游赛道:医药->太阳能->显示屏->集成电路

客户结构:分散->集中->IC行业龙头

2015年,至纯布局湿法清洗设备,19年输出产能,跻身国内IC清洗设备三剑客

我们认为中国正处于半导体产业的爆发期,而至纯完美地踏准了半导体的风口,未来业绩的高增长将由半导体接力。

以下内容来自5月24日西南电子外发至纯科技研究报告

《立足高纯工艺系统,发力湿法清洗设备》

除了北方华创,还有这家小巨头


投资要点

核心业务突出,营收超预期增长。至纯科技作为国内高纯工艺行业龙头,主要从事高纯工艺系统及半导体装备的研发、生产、销售和技术服务,是国内主流的合格供应商。公司自成立以来经历了业务初创期、设计成型期、技术成熟期、业务稳定期,现在正处于结构转型期,业务重心向半导体行业倾斜。2018年公司营业总收入6.7亿元,超过2017年公司5亿元的目标,同比增长82.6%,主要系2018年公司顺利成为国内先进制程IC产业的合格供应商,获得了核心客户的订单,产生了较大的增量订单和收入,新增业务订单总金额达9.1亿元,同比增长35.8%。

高纯工艺稳居龙头、市场需求强劲。2018年,公司完成了上海华力12英寸28纳米先进工艺产线的建设,验证了公司服务集成电路制造业先进工艺的技术能力,确立了公司在国内高纯工艺领域的龙头地位。新增高纯工艺系统订单8亿元。高纯工艺系统下游应用主要分为半导体、光伏、LED、医药四部分。随着半导体制造商对高纯工艺需求迅速增长,半导体收入贡献已超过65%,成为营收主力。2019年3月,公司收购波汇科技,收购后可运用波汇科技的光传感监控系统及智能算法技术提升高纯工艺系统的控制精度,技术协同效应增强、并表后盈利水平将再上新台阶。

清洗设备正式投产、已获批量订单。2018年公司完成了启东制造中心6万平米的建设,湿法设备制造工厂正式投入使用。2019年5月8日,公司发布预案,拟公开发行总额约3.6亿元的可转换公司债券,其中1.2亿元用于半导体湿法设备制造项目,2.4亿元用于晶圆再生基地项目。公司已形成Ultron B200和Ultron B300的槽式湿法清洗设备和Ultron S200和Ultron S300的单片式湿法清洗设备产品系列,订单金额1.1亿元,预计2019年国内企业对于清洗设备的总需求在400台以上,市场空间巨大。

盈利预测与投资建议:由于并表后协同作用显著,归母净利润大幅提高,预计2019-2021年EPS分别为0.53元、0.93元、1.19元。考虑到公司主营业务与客户结构不断优化,清洗剂业务不断放量,给予公司2019年50倍估值,对应目标价26.5元,首次覆盖,给予“买入”评级。

风险提示:清洗设备研发投入和技术突破不及预期的风险;下游市场对高纯工艺系统和半导体清洗设备需求量降低的风险;并购企业业绩不及承诺的风险。

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国内稀缺标的,高纯工艺龙头

1.1 从事半导体专用设备的研发、生产和销售的高科技企业

至纯科技成立于2000年主要从事高纯工艺系统及半导体装备的研发、生产、销售和技术服务,是国内主流的合格供应商。高纯工艺系统产品主要包括:气体高纯工艺设备及系统、化学品高纯工艺设备及系统以及物料及水系统,广泛应用于集成电路、微机电系统、平板显示、光伏、半导体照明、光纤、生物制药、食品饮料等领域。半导体装备产品主要包括:湿法槽式清洗设备及湿法单片式清洗设备,主要应用于集成电路、微机电系统、平板显示等领域。


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公司自成立以来主营业务和客户结构的发展经历了业务初创期、设计成型期、技术成熟期、业务稳定期、结构转型期五个阶段。

第一阶段:业务初创期(2000-2005年)。在这一阶段公司业务主要以工程分包为主,业务规模小,客户行业结构相当分散。这一阶段的客户只有上海朝晖药业、上海交大昂立生命、南大光电、空气化工等公司。

第二阶段:设计成型期(2005-2008年)。公司开始涉足高纯工艺系统整体解决方案领域,能够自行设计并整体承接高纯工艺系统业务。这一阶段的主要客户为扬子江药业、华瑞制药、震元制药、神威药业、晶澳太阳能、中电电气等公司。

第三阶段:技术成熟期(2008-2011年)。在此阶段公司加强了研发投入,成功完成了多项高纯工艺系统核心设备及相关控制软件的研发,将公司核心技术与工艺提升至优秀水平,代表客户有晶澳太阳能、英利能源、晶科能源等公司。

第四阶段:业务稳定期(2011下半年-2016年)。公司业务能力和支持体系覆盖多个下游行业,盈利能力稳步提升,主要客户为上海新进芯微电子、国星半导体、中谷光电、华瑞制药、和辉光电、晋能集团、国健药业、易健生物。

第五阶段:结构转型期(2016至今)。随着半导体行业规模的扩大,半导体设备制造商对高纯工艺需求迅速增长,公司将重心移到半导体行业,客户结构覆盖了目标市场的主要行业,且基本为各自行业的领军企业或主要企业,如上海华力、中芯国际、长江存储、合肥长鑫、士兰微、西安三星、无锡海力士等


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公司股权结构清晰,第一大股东控制力强。截止2019年第一季度,至纯科技的第一大股东及实际控制人为蒋渊女士。持股比例5%以上的大股东为蒋渊(32.1%)、陆龙英(11.8%)、尚纯投资(5.3%)


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1.2 核心业务突出,盈利能力强劲

公司营收实现四连增。2018年营收6.7亿元,同比增长82.6%,主要系国家半导体产业战略逐步落地、公司下游先进制造行业固定资产投资需求的持续增长, 公司半导体业务较去年同期增长较多。2018年高纯工艺系统的新增业务订单总额达8亿元。

公司归母净利润18年有所下滑,但19Q1展现拉升态势。2018年归母净利润0.3亿元,同比下降34.2%,主要原因系:第一,2018年公司布局的湿法设备业务在初期需要投入较多的研发成本,因此研发成本较去年同期增加约2300万元,管理费用增加约1600万元,销售费用增加约1100万元;第二,2017年末公司开始进入先进制程的集成电路产业,在同国外竞争对手竞争过程中,为力求中标,公司在报价上让利幅度较大;第三,由于全球半导体扩张,引发了全球半导体材料及零部件供给紧张,部分材料的价格有所上涨,使得公司业务的整体毛利率有所下降。公司19Q1归母净利润0.1亿元,同比增长411%,主要系公司并购波汇科技后技术协同作用显著,毛利率从28%提高到31%,净利率从4.7%提高到8.8%。


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公司主营业务来于高纯工艺系统、高纯工艺设备以及相配套的检测、维修等服务业务。从营收结构来看,高纯工艺系统占比最大,2013和2014年高纯工艺系统营收占比超80%,2015年高纯工艺系统营收占比为75.8%,较往年略有下降。


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公司毛利率2018年有所下降但19Q1再度反弹。主要系2017年末公司进入先进制程的集成电路产业时,为力求中标,在价格上给予较大优惠;同时,由于全球半导体扩张,引发了全球半导体材料及零部件供给紧张,部分材料的价格有所上涨,使得公司业务的整体毛利率有所下降;2019Q1随着半导体材料价格回调,毛利率再度出现反弹,从28.19%上升至30.95%。

公司下游应用向半导体行业倾斜。从公司在不同应用领域营收占比来看,医药行业处于不断萎缩趋势,从2016年的12%萎缩成2018年6%。相反,半导体类应用的营收占比不断上升,从2016年的不足50%上升至2018年的65%,这主要由于下游电子消费市场的不断扩大、国内迎来建厂投资高潮和国家集成电路产业投资基金及各地方集成电路产业投资对半导体行的推动导致。


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高纯工艺系统应用广阔,下游需求强劲

2.1立足高纯工艺,稳居国内龙头

高纯工艺系统由专用设备、侦测传感系统、自控及软件系统、管阀件等组成;系统的前端连接高纯介质储存装置,系统的终端连接客户自购的工艺生产设备,目的是将高纯介质在不受到二次污染的情况下安全输送到工艺设备,防止杂质渗入对产品制造产生连锁影响。

公司高纯工艺系统体系完整、覆盖面广。公司经营的高纯工艺系统主要有:泛半导体及光纤类高纯工艺系统、医药及食品饮料类高纯工艺系统和尾气废液处理系统,其中泛半导体及光纤类高纯工艺系统又可以气体类系统和化学品类系统。高纯工艺设备方面,公司主要产品包括GMP清洗机、无菌灌装联动线、蒸发气柜和自动成型真空系统设备。


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公司高纯工艺技术水平处于行业领先。2018年,公司完成了上海华力12英寸28纳米先进工艺产线的建设,验证了公司服务集成电路制造业先进工艺的技术能力,确立了公司在国内高纯工艺领域的龙头地位。2018年高纯工艺系统的新增业务订单总额达8亿元。

高纯工艺系统的应用领域不断拓宽。不纯物控制技术最初应用在半导体行业。随着半导体制程工艺的广泛应用,现代制造业形成了一个泛半导体产业,即皆以半导体制程为产品的制造流程,其中的制程包括如掺杂、光刻、刻蚀、CVD成膜等均需使用相当多的高纯度气体和高纯度化学品,从而产生对高纯工艺系统的大量需求。随着集成电路产业向中国大陆的第三次转移,相关制造业企业的产能扩张与技术改造需求是公司高纯工艺系统业务持续增长的强劲推力。同时,随着国内各条晶圆产线的陆续投建,对工艺设备的需求同步提升。


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下游应用一——半导体行业,市场规模巨大。近年来半导体行业不断升温,迎来建厂与采购的高峰期。未来5-8年国内将持续新建晶圆厂,作为下游行业生产工艺过程的重要组成部分,高纯工艺系统将迎来一轮成长周期。同时随着晶圆厂的陆续建成,工艺设备的需求呈上升趋势,有能力的国产设备供应商将迎来市场新机遇。

下游应用二——光伏产业,发展前景可期。高纯工艺系统通过控制高纯工艺介质(气体、化学品、水)的纯度,以实现制程精度要求,保障并提升产品良率。国家能源局发布的2017年电源增长情况中指出,与水电、火电、核电等相比,太阳能发电增幅最大。尤其是分布式光伏的爆发式增长,使得光伏成能源转型最重要的推动力量之一。2017年,中国光伏发电新增装机量为53.1GW,同比增加18.5GW,增速高达53.6%,占全球新增装机量的54%左右,提前完成了“十三五”规划的目标。其中累计装机量已经达到130.3GW,光伏发电量达到了1100亿千瓦时,占该年发电量的1.7%,新增发电量超过了600亿千瓦时,对国家的能源转型有着显著的贡献。

下游应用三——LED行业,新增长点出现。据高工产研LED研究所(GGII)数据显示,2017年中国LED行业总体规模6368亿元,同比增长21%,GGII预计2018-2020年中国LED产业产值规模复合增长率将达18%左右,2020年中国LED产值规模将突破1万亿。

Micro-LED 凭借功耗低、亮度高、易调试、使用寿命长优势,未来有望取代 LCD、 OLED成为面板显示器的主流技术,而省电特质使其可适用于AR/VR 头盔及智能手表等穿戴式装置荧幕,并适合作为户外显示面板、头戴式显示器(HMD)、汽车抬头显示器(HUD)所用。此外,未来Micro-LED 有望应用于汽车仪表盘以及消费电子方面的笔记本电脑、智能手机等设备。随着技术和成本瓶颈的逐渐突破,Micro-LED显示器市场有望从2018年开始快速成长,在 2025年达到3.3亿台的出货量。

下游应用四——医药行业,刚性需求支撑。医药行业中所使用的高纯工艺系统主要为制药用水系统和物料工艺配液系统等工艺系统。通过微生物控制、粒子控制、细菌内毒素控制,高纯工艺系统能确保医药企业整个生产工艺流程全程无菌,满足质量管理要求,确保产品质量。

虽然2012年开始医药行业进入下行轨道,但刚性需求是其一大支撑。近两年来医药行业陆续有重磅政策出台和执行,覆盖药品/器械审批、生产、流通、支付、诊疗各环节,制药、流通、医械、服务等领域都面临着新的机遇与挑战。随着国内医药生产企业新版GMP标准的实施,由GMP强行认证带来的行业集中整合效应正在逐渐体现,目前我国正积极推进保健食品行业执行GMP及HACCP(危害分析与关键控制点)管理认证,带动了公司业务的发展。

2.2 收购波汇科技,增强技术协同

2019年4月,公司通过发行股份及支付现金的方式收购波汇科技100%股权,总交易对价为6.8亿元,其中定向发行股份4.3亿元,支付现金2.5亿元。收购完成后波汇科技成为公司全资子公司。


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上海波汇科技成立于2002年,主要从事光传感及光电子元器件的研发、生产和销售,是光纤传感技术领域的为数不多具有垂直集成能力的供应商,在分布式光纤振动监测、分布式光纤温度检测、光纤光栅传感系统以及模式识别智能算法、智能视频、软件平台等领域拥有国际领先的核心技术。公司致力于为电力、石化等工业客户及地下管廊、油气管线、轨道交通、道路桥梁等基础设施提供综合性安全监控解决方案。客户涵盖中国石油、中海油、国家电网、南方电网、中建集团、华为、霍尼韦尔等大型企业,并已在全球实现了生产、研发及营销网络的布局。

此次收购后,公司将在业内率先实现将光传感监控系统及智能算法技术运用在高纯工艺系统及工艺制程设备中,提升系统的控制精度,并增加系统及设备运营过程中的数据汇聚及智能决策功能,提高产品技术含量与市场竞争力。此外,可将波汇科技光纤传感监测产品运用在厂务配套业务的安防监控领域, 设计研发出更加全面的工业安防解决方案,实现由高纯工艺系统整体解决方案工艺向智慧工厂运营商的转型升级,成为上市公司新的盈利增长点。


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波汇科技承诺18-20年扣非净利润分别不低于3200、4600和6600万元,分别占公司2017年归母净利润65%、93%、134%。波汇科技2018年实际实现的扣除非经常性损益后的归属于母公司所有者的净利润3709万元,已完成2018年的业绩承诺。

3

进军清洗机市场,打开新盈利增长点

3.1 发力清洗机业务,精耕湿法工艺设备

公司于2015年开始启动湿法工艺装备研发,2016年成立院士工作站,2017年成立全资子公司至微半导体,负责湿法清洗设备的研发和制造,至微已在合肥设立服务基地,开展晶圆再生和部件清洗业务。2018年公司完成了启东制造中心6万平米的建设,湿法设备制造工厂正式投入使用。2019年5月8日,公司发布预案,拟公开发行总额约3.6亿元的可转换公司债券,其中1.2亿元用于半导体湿法设备制造项目,2.4亿元用于晶圆再生基地项目。2019年05月13日,至纯科技启东生产基地落成后生产的第一台设备Auto Wet Bench顺利交付,这台在上海设计启东生产的自主可控的WaferReclaim设备的交付,是启东基地真正启动的里程碑


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目前,公司提供的槽式设备(槽数量按需配置)及单片机设备(8~12反应腔)均可以提供8~12寸晶圆制造的湿法工艺设备。该类设备可以应用在先进工艺上:主要为记忆体(DRAM,3D Flash)、逻辑产品以及今年来迅速发展的特殊工艺上,例如薄片工艺、化合物半导体、金属剥离制程等,可以满足用户去胶及去胶后清洗、炉管、长膜前清洗、氧化层/氮化硅蚀刻、铜/钛金属蚀刻、聚合物去除、擦片清洗、化学机械研磨后清洗等工艺应用的需求。

公司的槽式清洗设备主要由日本子公司经营,引进日本团队近20人,团队人员均有国际大厂相关经验;单片式清洗设备则与海力士专属供应商——韩国公司MUJIN合作,双方均贡献技术、共享IP。目前槽式清洗设备是在日本制造,将来会放在启东新厂。

公司致力于打造自有的清洗设备品牌ULTRON,形成高端湿法设备制造开发平台。公司已于2017年形成了Ultron B200和Ultron B300的槽式湿法清洗设备和Ultron S200和Ultron S300的单片式湿法清洗设备产品系列。2018年,公司湿法清洗设备已获得了中芯、万国、TI、燕东、华润等用户的正式订单,湿法工艺设备的新增业务订单总额达到1700万美元(合人民币 1.1 亿元)。总体来看,国内企业2019年对于清洗设备的总需求在400台以上,未来有望在清洗设备赛道加速奔跑。


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3.2 芯片制程提升,拉动清洗市场扩张

清洗工作是在不破坏晶圆表面特性及电特性的前提下,有效地使用化学溶液或气体清除残留在晶圆上之微尘、金属离子及有机物之杂质。目前的芯片制程中,几乎在所有重要步骤前后都需要清洗,清洗步骤约占所有工艺步骤的30%。随着芯片制程不断向精密化升级,芯片的复杂性大幅度提高,制程对杂质的敏感度更高,同时微小尺寸污染物的高效清洗也更加困难。因此,为了维持合理范围内的良品率,避免巨额损失,清洗步骤的数量和重要性也在随之提升。


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实际应用中的半导体清洗技术大致分为湿法清洗和干法清洗两个主要类别,目前湿法清洗仍是工业中的主流,占清洗步骤的90%以上。湿法工艺是指采用腐蚀性和氧化性的化学溶剂进行喷雾、擦洗、蚀刻和溶解随机缺陷,使硅片表面的杂质与溶剂发生化学反应生成可溶性物质、气体或直接脱落,并利用超纯水清洗硅片表面并进行干燥,以获得满足洁净度要求的硅片。而为了提高硅片清洁效果,可以采用超声波、加热、真空等辅助技术手段。湿法清洗包括纯溶液浸泡、机械擦拭、超声/兆声清洗、旋转喷淋法等。相对而言,干法清洗是指不依赖化学试剂的清洗技术,包括等离子体清洗、气相清洗、束流清洗等。


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根据盛美半导体数据,2017年全球半导体清洗设备的市场规模为29亿美元,随着清洗工序不断增加,扩产和替代需求的驱动下,未来对于湿法清洗设备的需求将保持高速增长。预计2020年全球清洗设备市场规模将达到35亿美元。至纯科技指出,从清洗设备的配备量来看,以4万片产能的产线为例,一般情况下,8寸线匹配50台设备,12寸线国内匹配70台设备左右,包括槽式和单片,国外有的厂商能够达到120台清洗设备水平,未来清洗机市场规模可观。


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湿法清洗按照一次清洗的对象数量分为批量清洗—槽式清洗法(Batchcleaning)和单晶圆清洗(Single wafer cleaning)。单晶圆清洗取代批量清洗是先进制程的主流。湿批量清洗指的是在一个处理仓中,利用浸泡等方法同时清洗多只晶圆的方法。在制程为96、65nm时槽式清洗法得到了广泛的应用。但是由于交叉污染、清洗均匀可控性和后续工艺相容性等问题,这种方法在45nm工艺周期到来时已经无法开始适应新的清洗要求,单晶圆清洗开始逐步取代批量槽式清洗。单晶圆清洗首先能够在整个制造周期提供更好的工艺控制,即改善了单个晶圆和不同晶圆间的均匀性,这提高了良率;其次更大尺寸的晶圆和更紧缩的制程设计对于杂质更敏感,那么批量清洗中若出现交叉污染的影响会更大,进而危及整批晶圆的良率,这会带来高成本的芯片返工支出;另外圆片边缘清洗效果更好,多品种小批量生产的适配性等优点也是单晶圆清洗的优势之一。然而,单晶圆清洗设备相对槽式清洗设备的最大短板就是产出率相对较低。在同数量腔室的两种设备中,单晶圆产出率仅能达到槽式设备的35%-60%。


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在全球清洗设备市场,日本公司占据主导地位,约60%的市场份额由日本DNS(迪恩士)占据,30%的市场份额被日本TokyoElectron(东京电子)占据,其他厂商包括韩国SEMES、美国LamResearch(拉姆研究)等。

目前我国的清洗机设备领域有北方华创、至纯科技和盛美半导体三家主要厂商,且三家专注的领域有所差异。其中,盛美半导体专注于单晶圆清洗设备,北方华创收购Akrion之后主要制造槽式批量清洗设备,至纯科技主要着重研制14nm单晶圆和槽式清洁设备。

盛美半导体:成立于1998年,专攻单片式晶圆清洗设备,拥有独创的兆声波清洗(SAPS)技术、通电气泡震荡兆声波清洗(TEBO)技术,是国内唯一进入14nm产线验证的清洗设备厂商,在技术上已具备与国际企业竞争的实力。在客户方面,盛美半导体与海力士有着长期合作关系,并已进入长江存储、中芯国际、华力微电子、长电科技等企业生产线。

北方华创:作为国内拥有最丰富产品线的半导体设备企业,其清洗设备产品覆盖了单片和槽式清洗设备。2017年8月,北方华创以1500万美元收购了美国半导体清洗设备企业Akrion,该交易已于2018年1月宣布正式完成交割,进一步丰富了北方华创的产品线。截至目前,北方华创在清洗设备领域,已经形成涵盖应用于IC、先进封装、功率器件、MEMS和LED等半导体领域的8-12英寸批式和单片清洗机产品。


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随着大陆半导体大规模建厂潮的进行,国内产业投资量的迅猛增长,以及我国本土厂商技术研发的进步,我国湿法清洗机台的国产化率将不断提高,从而逐步实现进口替代,增强半导体自主可控能力。

(全文完)


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